Arrêt de service lundi 11 juillet de 12h30 à 13h : tous les sites du CCSD (HAL, EpiSciences, SciencesConf, AureHAL) seront inaccessibles (branchement réseau à modifier)
Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Communication dans un congrès

Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01825533
Contributeur : Marielle Clot Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 28 juin 2018 - 13:55:02
Dernière modification le : mardi 7 juin 2022 - 14:58:02

Identifiants

  • HAL Id : hal-01825533, version 1

Citation

C. Navarro, C. Nicolet, F. Ariura, X. Chevalier, K. Xu, et al.. Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning. 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology, Jun 2017, chiba, Japan. ⟨hal-01825533⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

92