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Communication dans un congrès

High capacitance 3D MIM structures achieved by ALD deposited TiO2 for advanced DRAM applications

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01825056
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 28 juin 2018 - 09:03:43
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:04

Identifiants

  • HAL Id : hal-01825056, version 1

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Citation

A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. High capacitance 3D MIM structures achieved by ALD deposited TiO2 for advanced DRAM applications. ALD 2017, 2017, Denver, United States. ⟨hal-01825056⟩

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