Pulsed transfer etching of PS–PDMS block copolymers self-assembled in 193 nm lithography stacks - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ACS Applied Materials & Interfaces Année : 2014

Pulsed transfer etching of PS–PDMS block copolymers self-assembled in 193 nm lithography stacks

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01798236

Soumis le : mercredi 23 mai 2018-12:02:24

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Dates et versions

hal-01798236 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

Citer

C. Girardot, S. Böhme, S. Archambault, M. Salaün, E. Latu-Romain, et al.. Pulsed transfer etching of PS–PDMS block copolymers self-assembled in 193 nm lithography stacks. ACS Applied Materials & Interfaces, 2014, 18 (6), pp.16276-16282. ⟨10.1021/am504475q⟩. ⟨hal-01798236⟩

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