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	hal-00649912v1 Communication dans un congrès F. Chave. Analyse du procédé de gravure par plasma des interfaces métalliques dans les grilles de transistors "High-K Métal" en technologie CMOS 28nm 14èmes JNRDM, May 2011, Paris, France
	hal-00649910v1 Communication dans un congrès F. Chave, L. Vallier, E. Pargon, O. Joubert, S. Barnola et al. Plasma Etching Challenges for Porous SiOCH Integration In Advanced Interconnect Levels Revue annuelle des thèses 3DSi Minatec, 2011, Grenoble, France
	hal-00649911v1 Communication dans un congrès F. Chave, L. Vallier, P. Gouraud, S. Baudot, C. Roukoss et al. Etching issues with High-K Metal Gate stacks for CMOS 28nm technology PESM 4th International Workshop, May 2011, Malines, Belgium
	hal-00649913v1 Communication dans un congrès F. Chave, L. Vallier, P. Gouraud, S. Baudot, C. Petit-Etienne et al. Study of Metallic Interfaces Etching for High-K Metal Gate stacks in CMOS 28 nm Technology AVS 58th International Symposium and Exhibition, Oct 2011, Nashville, United States
	hal-00639535v1 Article dans une revue Jens Kattge, Sandra Diaz, Sandra Lavorel, I.C. Prentice, Paul Leadley et al. TRY - a global database of plant traits Global Change Biology, Wiley, 2011, 17 (9), pp.2905-2935. <10.1111/j.1365-2486.2011.02451.x>
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