Rechercher

		Pertinence Auteur A→Z Auteur Z→A Titre A→Z Titre Z→A Date de publication croissante Date de publication décroissante Date de dépôt croissante Date de dépôt décroissante 30 résultats par page 50 résultats par page 100 résultats par page Pour les 3 documents Exporter XML-TEI BibTeX EndNote CSV PDF Export avancé... Syndication RSS ATOM
	hal-00394491v1 Article dans une revue A.L Charley, A. Lagrange, O. Lartigue, J. Simon, P. Thony et al. Hyper high NA interferometer for immersion lithography at 193nm Journal of Vacuum Science and Technology, American Vacuum Society (AVS), 2005, pp.B 23 6 (2005) 2668-2674
	hal-00394520v1 Communication dans un congrès A.L Charley, A. Lagrange, O. Lartigue, P. Bandelier, M. Derouard et al. Liquid Immersion lithography at 193nm using a high-NA achromatic interferometer SPIE Proceedings Optical Microlithography XIX, 2006, san jose, United States. vol. 6154, p 683-691, 2006
	hal-00394748v1 Article dans une revue J. Tallal, M. Gordon, K. Berton, A.L Charley, D. Peyrade. AFM characterization of anti-sticking layers used in nanoimprint Microelect. Engin, 2006, pp.83 (2006) 851-854
		Pertinence Auteur A→Z Auteur Z→A Titre A→Z Titre Z→A Date de publication croissante Date de publication décroissante Date de dépôt croissante Date de dépôt décroissante 30 résultats par page 50 résultats par page 100 résultats par page Pour les 3 documents Exporter XML-TEI BibTeX EndNote CSV PDF Export avancé... Syndication RSS ATOM