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	hal-00394519v1 Communication dans un congrès A. Borjon. Process window OPC verification: Dry versus Immersion lithography for the 65nm node SPIE Proceedings Optical Microlithography XIX, 2006, san jose, United States. vol. 6154, p 1475-1485, 2006
	hal-00462527v1 Article dans une revue A. Borjon, J. Belledent, Y. Trouiller, K. Patterson, K. Lucas et al. Critical failure OPC: Improving model accuracy through enhanced model generation Microelectronic Engineering 83, 2006, pp.83, Issues 4-9 February (2006) 1017-1022
	hal-00023226v1 Article dans une revue A. Borjon, J. Belledent, Y. Trouiller, K. Patterson, K. Lucas et al. Critical failure ORC: Improving model accuracy through enhanced model generation Microelectronic Engineering, Elsevier, 2006, 83, Issues 4-9, pp.1017-1022. <10.1016/j.mee.2006.01.034>
	hal-00291568v1 Article dans une revue A. Borjon, J. Belledent, Y. Trouiller, C. Gardin, C. Couderc et al. Analysis of the diffraction pattern for optimal assist feature placement Microelectronic Engineering, Elsevier, 2007, 84 (5-8), pp.741-745. <10.1016/j.mee.2007.01.016>
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