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	1 2 3 4 5 6 7 8 9 10	Pertinence Auteur A→Z Auteur Z→A Titre A→Z Titre Z→A Date de publication croissante Date de publication décroissante Date de dépôt croissante Date de dépôt décroissante 30 résultats par page 50 résultats par page 100 résultats par page Pour les 1252 documents Exporter XML-TEI BibTeX EndNote CSV PDF Export avancé... Syndication RSS ATOM
	hal-00650184v1 Communication dans un congrès A. Salaün, V. Beugin, H. Grampeix, C. Licitra, N. Rochat et al. ALD/PEALD CMOS Compatible Oxide for Resistive RAM 58th National Symposium AVS, Oct 2011, Nashville, United States
	hal-00800332v1 Article dans une revue Yann Riffonneau, Seddik Bacha, Franck Barruel, Yahya Baghzouz, Éric Zamaï. Optimal reactive supervision of grid connected PV systems with batteries in real conditions International Review of Electrical Engineering, 2012, 7, pp.4607-4615
	hal-00650189v1 Communication dans un congrès M. Bonvalot, C. Mannequin, P. Gonon, C. Vallée, V. Jousseaume et al. Resistive Switching in HfO2 Metal-Insulator-Metal Devices 58th National Symposium AVS, Oct 2011, Nashville, United States
	inria-00200450v1 Communication dans un congrès Gwen Salaün, Wendelin Serwe, Yvain Thonnart, Pascal Vivet. Formal Verification of CHP Specifications with CADP - Illustration on an Asynchronous Network-on-Chip Proceedings of the 13th IEEE International Symposium on Asynchronous Circuits and Systems ASYNC 2007, Mar 2007, Berkeley, California, United States. 2007
	hal-00550426v1 Communication dans un congrès Mykhailo Zarudniev, Eric Colinet, Patrick Villard, Ursula Ebels, Gérard Scorletti. Spintorque Oscillator Characteristics in Coupled Networks DMEMS, Jun 2010, Besançon, France. pp.20-23, 2010, <10.1109/dMEMS.2010.10>
	hal-00650216v1 Communication dans un congrès P.H Morel, J.M Hartmann, C. Morin, P. Faucherand, S. Perraud et al. Study and Comparison of Guided Silicon Nanostructures for MOS Devices: CVD versus Epitaxy MRS Fall meeting 2010, Nov 2010, Boston, United States
	hal-00951022v1 Communication dans un congrès E. Pargon, M. Fouchier, M. Brihoum, L. Azarnouche, K. Menguelti et al. Metrology and Linewidth roughness issues during complex metal/high-k gate stack patterning for sub-20nm technological nodes 60th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2013, Long Beach, United States
	hal-00266811v1 Chapitre d'ouvrage Laurent Davoust, Yves Fouillet, Yoshito Ishida. Drop stirring flow under EWOD and EHD actuation: a new step towards biological sample preparation Proceedings of the microTas conference, 2, J.L. Viovy, P. Tabeling, S. Decroix, L.Malaquin Eds, pp.925-927, 2007
	hal-00722513v1 Communication dans un congrès Ananda Basu, Saddek Bensalem, Marius Bozga, Julien Mottin, Francois Pacull et al. System-Level Modeling, Analysis and Code Generation: Object Recognition Case Study Embedded World 2012, Feb 2012, Nuremberg, Germany
	tel-00373417v1 Thèse Olivier Gourhant. Élaboration et caractérisation de matériaux à très faible constante diélectrique de type a-SiOCH élaborés par PECVD : application aux interconnexions des circuits intégrés Matériaux. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français
	hal-01121591v1 Communication dans un congrès L. Vincent, S. Mancini, H.P. Charles, S. Lesecq. Adaptive Data Prefetching for High Performance Processors HPES (High Performance Embedded Systems) Workshop at the HIPEAC Conférence, Jan 2015, Amsterdam, Netherlands. Proceedings
	hal-00620421v1 Chapitre d'ouvrage Gildas Besancon, Alina Voda, Guillaume Jourdan. Observer-based estimation of weak forces in a nanosystem measurement device A. Voda. Micro, Nanosystems and Systems on Chips: Modeling, Control, and Estimation, Wiley-ISTE, pp.59-83, 2010
	inserm-01323080v1 Pré-publication, Document de travail Fabien Momey, Anthony Berdeu, T Bordy, J.-M Dinten, F Kermarrec Marcel et al. Lensfree diffractive tomography for the imaging of 3D cell cultures 2015
	tel-00476706v1 Thèse Laurent Thévenod. Étude de la mobilité des porteurs dans des transistors MOS intégrant un oxyde de grille de forte permittivité et une grille métallique Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Institut National Polytechnique de Grenoble - INPG, 2009. Français
	inria-00073975v1 Rapport Jean-Michel Létang, Patrick Bouthemy, Véronique Rebuffel. Robust Motion Detection with Temporal Decomposition and Statistical Regularization [Research Report] RR-2717, INRIA. 1995
	hal-00671966v1 Communication dans un congrès Nicolas Hili, Christian Fabre, Sophie Dupuy-Chessa. Efficient Embedded System Development: A Workbench for an Integrated Methodology ERTS 2012 - Embedded Real Time Software and Systems, Feb 2012, Toulouse, France. pp.1-10, 2012
	cea-01176446v1 Communication dans un congrès Tiana Rakotovao, Julien Mottin, Diego Puschini, Christian Laugier. Real-Time Power-Efficient Integration of Multi-Sensor Occupancy Grid on Many-Core IEEE International Workshop on Advanced Robotics and its Social Impacts. ARSO 2015, Jul 2015, Lyon, France. 2015, <http://arso2015.inria.fr/>
	hal-00623452v1 Communication dans un congrès T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, R. Bouyssou, J. Ducote et al. Plasma Etching Process Scalability and challenges for ULK Materials IITC 2010, Jun 2010, Burlingame USA., United States
	hal-00658371v2 Rapport Giorgio Corbellini, Cédric Abgrall, Emilio Calvanese Strinati, Andrzej Duda. Technical Report: Energy Evaluation of Preamble Sampling MAC Protocols for Wireless Sensor Networks 2011
	hal-00828111v1 Chapitre d'ouvrage A. Puszka, M. Debourdeau, L. Hervé, A. Planat-Chrétien, A. Koenig et al. Tomographie Optique Diffuse résolue en temps en géométrie de réflexion: images de contraste d'absorption en profondeur S. Mottin et G. Lelièvre. Biophotonique Générale Optique & Imageries pour le Diagnostic dans les Sciences du Vivant et en Médecine, MRCT CNRS, pp.509, 2012, 978-2-918701-11-8
	hal-00625286v1 Article dans une revue N. Posseme, R. Bouyssou, T. Chevolleau, T. David, V. Arnal et al. Residue growth on metallic hard mask after dielectric etching in fluorocarbon based plasmas. II. Solutions Vac. Sci. Technol., 2011, pp.B 29 (1), Jan/Feb 2011, 011018
	hal-00625357v1 Communication dans un congrès N. Posseme, T. David, T. Chevolleau, M. Darnon, F. Bailly et al. Porous SiCOH Patterning for Advanced Interconnects: Challenges and Solutions Electrochem. 219th Soc. Meeting, 2011, Montreal, Canada
	hal-00625370v1 Communication dans un congrès M. Haass, M. Darnon, E. Pargon, G. Cunge, S. Banna et al. Synchronized pulsed plasmas: potential process improvements for patterning technologies 63rd Gaseous Electronic Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, Oct 2010, Paris, France
	hal-00625314v1 Communication dans un congrès T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, R. Bouyssou, J. Ducote et al. Etching Process Scalability and Challenges for ULK Materials Proceeding of IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC, Jun 2010, DRESDE, Germany
	hal-00625365v1 Communication dans un congrès N. Posseme, T. Chevolleau, T. David, M. Darnon, F. Bailly et al. Plasma Processes Challenges for Porous SiOCH Patterning in Advanced Interconnects AVS 57th international symposium, 2010, Albuquerque, United States
	hal-00625356v1 Communication dans un congrès M. Darnon, T. Chevolleau, T. David, N. Posseme, R. Bouyssou et al. Characterizing Plasma Induced Damage to Ultra Low-k China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2011, Shanghaï, China
	hal-00625378v1 Communication dans un congrès O. Joubert, E. Pargon, G. Cunge, M. Darnon, L. Vallier et al. Challenges and future prospects in plasma etching processes 3rd International Conference on PLAsma NanoTechnology and Science, Mar 2010, Nagoya,, Japan
	hal-00625382v1 Communication dans un congrès R. Bouyssou, T. Chevolleau, M. El Kodadi, M. Besacier, N. Possémé et al. Sidewall Modification of Porous SiOCH Induced by Etching and Post Etching Plasma Treatments 3rd Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, Mar 2010, Grenoble, France
	hal-00625271v1 Communication dans un congrès V. Jousseaume, C. Guedj, J.F. Nodin, A. Persico, H. Feldis et al. The impact of oxide properties on resistive RAM electrical characteristics 2010 MRS Spring Meeting, 2010, San Francisco (USA), United States
	hal-00980561v1 Communication dans un congrès Alexis Peschot, Christophe Poulain, H. Sibuet, Frédéric Souchon, Nelly Bonifaci et al. Spectroscopic Analysis of Material Transfer Phenomena in MEMS Switches IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), Apr 2013, Monterey, United States. 2013
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