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Communication dans un congrès

Plasma-induced damage during III-V semiconductor patterning for photonic and photovoltaic applications: from characterization to minimization

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

http://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02362107
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 13 novembre 2019 - 17:12:52
Dernière modification le : jeudi 2 juillet 2020 - 14:56:13

Identifiants

  • HAL Id : hal-02362107, version 1

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Citation

E. Pargon, M.De Lafontaine, M. Fouchier, C. Petit-Etienne, G. Gay, et al.. Plasma-induced damage during III-V semiconductor patterning for photonic and photovoltaic applications: from characterization to minimization. 18th conference on defects recognition, imaging and physics in semiconductors (DRIP XVIII), Sep 2019, Berlin, Germany. ⟨hal-02362107⟩

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