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Communication dans un congrès

Single batch strategies for the development of an Area Selective Deposition process with the deposition/etch approach

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

http://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338983
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019 - 11:09:56
Dernière modification le : vendredi 3 juillet 2020 - 16:45:18

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338983, version 1

Collections

CNRS | CEA | INC-CNRS | DRT | LETI | LMGP | LTM | UGA | CEA-GRE

Citation

C. Vallee, M. Bonvalot, R. Gassilloud, V. Pesce, A. Chaker, et al.. Single batch strategies for the development of an Area Selective Deposition process with the deposition/etch approach. 19th International Conference on Atomic layer Deposition (ALD2019), Jul 2019, Bellevue (USA), United States. ⟨hal-02338983⟩

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