In line and ex situ metrology and characterization to enable Area Selective Deposition - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

In line and ex situ metrology and characterization to enable Area Selective Deposition

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338893

Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-10:51:18

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:37

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338893 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338893 , version 1

Citer

C. Vallee, M. Bonvalot, B. Pelissier, J.H. Tortai, S. David, et al.. In line and ex situ metrology and characterization to enable Area Selective Deposition. AVS 66th International Symposium 2019, Oct 2019, Colombus (USA), United States. ⟨hal-02338893⟩

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