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Controlling the Current Conduction Asymmetry of HfO 2 Metal–Insulator–Metal Diodes by Interposing Al 2 O 3 Layer

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http://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02325464
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 11:35:37
Dernière modification le : mardi 23 juin 2020 - 07:26:07

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Woojin Jeon, Olivier Salicio, Ahmad Chaker, Patrice Gonon, Christophe Vallée. Controlling the Current Conduction Asymmetry of HfO 2 Metal–Insulator–Metal Diodes by Interposing Al 2 O 3 Layer. IEEE Transactions on Electron Devices, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2019, 66 (1), pp.402-406. ⟨10.1109/TED.2018.2881220⟩. ⟨hal-02325464⟩

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