Recent Achievements in sub-10 nm DSA lithography for Line/Space patterning
C. Navarro
(1)
,
C. Nicolet
,
F. Ariura
,
X. Chevalier
,
K. Xu
,
M. A. Hockey
,
M. Mumtaz
(2)
,
G. Fleury
(3)
,
G. Hadziioannou
(3)
,
A. Legrain
(4)
,
M. Zelsmann
(4)
,
A. Gharbi
(5)
,
R. Tiron
(5)
,
L. Pain
(5)
,
L. Evangelio
(6)
,
M. Fernández-Regúlez
(6)
,
F. Pérez-Murano
(6)
,
I. Cayrefourcq
(7)
1
ARKEMA FRANCE
2 LCPO - Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques
3 LCPO - Laboratoire de Chimie des polymères organiques
4 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
5 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
6 IMB-CNM - Instituto de Microelectrònica de Barcelona
7 SOITEC
2 LCPO - Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques
3 LCPO - Laboratoire de Chimie des polymères organiques
4 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
5 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
6 IMB-CNM - Instituto de Microelectrònica de Barcelona
7 SOITEC
C. Nicolet
- Fonction : Auteur
F. Ariura
- Fonction : Auteur
X. Chevalier
- Fonction : Auteur
K. Xu
- Fonction : Auteur
M. A. Hockey
- Fonction : Auteur
G. Fleury
- Fonction : Auteur
- PersonId : 940649
- IdHAL : guillaume-fleury
- ORCID : 0000-0003-0779-191X
- IdRef : 111203864
M. Zelsmann
- Fonction : Auteur
- PersonId : 740118
- IdHAL : marc-zelsmann
- ORCID : 0000-0002-7619-4871
- IdRef : 07808198X