Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
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https://hal.science/hal-00649912
Soumis le : vendredi 9 décembre 2011-09:32:43
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:00:08
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00649912 , version 1
Citer
F. Chave. Analyse du procédé de gravure par plasma des interfaces métalliques dans les grilles de transistors "High-K Métal" en technologie CMOS 28nm. 14èmes JNRDM, May 2011, Paris, France. ⟨hal-00649912⟩
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