Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Plasma Etching Challenges for Porous SiOCH Integration In Advanced Interconnect Levels

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https://hal.science/hal-00649910

Soumis le : vendredi 9 décembre 2011-09:27:26

Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-20:02:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00649910 , version 1 (09-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00649910 , version 1

Citer

F. Chave, L. Vallier, E. Pargon, O. Joubert, S. Barnola, et al.. Plasma Etching Challenges for Porous SiOCH Integration In Advanced Interconnect Levels. Revue annuelle des thèses 3DSi Minatec, 2011, Grenoble, France. ⟨hal-00649910⟩

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