Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2007

Side wall restoration of porous ultra low k dielectrics for sub-45 nm technology nodes

H. Chaabouni
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L.L. Chapelon
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M. Aimadeddine
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J. Vitiello
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A. Farcy
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R. Delsol
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P. Brun
D. Fossati
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V. Arnal
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T. Chevolleau
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LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Joubert
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LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Torres
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Soumis le : vendredi 19 juin 2009-15:11:51

Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-18:33:01

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Dates et versions

hal-00397091 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397091 , version 1

Citer

H. Chaabouni, L.L. Chapelon, M. Aimadeddine, J. Vitiello, A. Farcy, et al.. Side wall restoration of porous ultra low k dielectrics for sub-45 nm technology nodes. Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.2595-2599. ⟨hal-00397091⟩

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