Growth by Liquid-Injection MOCVD and Properties of HfO2 Films for Microelectronic Applications - Université Grenoble Alpes

Article Dans Une Revue Chemical Vapor Deposition Année : 2006

Growth by Liquid-Injection MOCVD and Properties of HfO2 Films for Microelectronic Applications

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C. Dubourdieu

Fonction : Auteur

LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

E. Rauwel

Fonction : Auteur

LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

C. Millon

Fonction : Auteur

LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

P. Chaudouët

Fonction : Auteur

LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

F. Ducroquet

Fonction : Auteur
PersonId : 171005
IdHAL : frederique-ducroquet
ORCID : 0000-0001-8770-9650
IdRef : 081930062

LPM - Laboratoire de physique de la matière

IMEP - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique

N. Rochat

Fonction : Auteur
PersonId : 1215447
ORCID : 0000-0003-3574-4424

CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

S. Rushworth

Fonction : Auteur

EPICHEM - Epichem Oxides and Nitrides

V. Cosnier

Fonction : Auteur

ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]

Mots clés

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00134934

Soumis le : lundi 5 mars 2007-20:32:23

Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:15:32

Dates et versions

hal-00134934 , version 1 (05-03-2007)

Identifiants

HAL Id : hal-00134934 , version 1

Citer

C. Dubourdieu, E. Rauwel, C. Millon, P. Chaudouët, F. Ducroquet, et al.. Growth by Liquid-Injection MOCVD and Properties of HfO2 Films for Microelectronic Applications. Chemical Vapor Deposition, 2006, 12, pp.187. ⟨hal-00134934⟩

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